1. 負(fù)責(zé)新產(chǎn)品開發(fā)過程中不良解析,例如點(diǎn)線類不良、畫面Mura以及相關(guān)特性不良
2. 負(fù)責(zé)新開發(fā)開發(fā)過程中PNL相關(guān)的信賴性不良解析,快速解析及原因分析,提出改善措施
3. 負(fù)責(zé)客返不良解析,快速定位,助力產(chǎn)品完成認(rèn)證工作
4. 新產(chǎn)品的DFEMA文件制作
5. 負(fù)責(zé)新產(chǎn)品開發(fā)過程中的影響良率提升的不良項(xiàng)目攻關(guān)
要求:
1. 光學(xué)/微電子/物理/半導(dǎo)體電路方向優(yōu)先
2. 具有電路特性分析理解能力
3. 具備發(fā)現(xiàn)工藝、產(chǎn)品特性問題和不良的分析和改善的能力
4. 細(xì)心、嚴(yán)謹(jǐn)、能熟練處理和分析各種測試數(shù)據(jù)
5. 具備和客戶溝通交流的能力



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電子技術(shù)·半導(dǎo)體·集成電路
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500-999人
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股份制企業(yè)
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北京市朝陽區(qū)酒仙橋路10號
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